图书介绍

硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型【2025|PDF|Epub|mobi|kindle电子书版本百度云盘下载】

硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型
  • （美）普卢默（Plummer，J.D.） 著
  • 出版社： 北京：电子工业出版社
  • ISBN：7505386387
  • 出版时间：2003
  • 标注页数：818页
  • 文件大小：88MB
  • 文件页数：837页
  • 主题词：硅－超大规模集成电路－技术－高等学校－教材－英文

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图书目录

第1章 引言及历史展望1

第2章 现代CMOS工艺技术49

第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性93

第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂151

第5章 光刻201

第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面287

第7章 杂质扩散371

第8章 离子注入451

第9章 薄膜淀积509

第10章 刻蚀609

第11章 后道工艺技术681

附录787

索引805

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